シリコンカーバイドは、石英の形のシリカ (SiO2) と石油コークスの形の炭素 (C) を混合した電気化学反応を伴うプロセスによって製造されます。化学量論的混合物は、電気抵抗炉で最高 2500 ℃ の温度で反応し、高品質の結晶を生成します。このプロセスは、炉の中央にグラファイト電極を備えた大型炉技術です。その後、大きな結晶は分離、粉砕され、高強度磁気分離機で磁性不純物が除去され、最終用途に合わせて細かいサイズに分類されます。
| 典型的な化学分析 | 代表的な物理的特性 | ||
| シリコンカーバイド | ≥98% | 硬度： | モース硬度：9.15 |
| SiO2 | ≤1% | 融点: | 2250℃で昇華する |
| 過酸化水素 | ≤0.5% | 最高使用温度: | 1900℃ |
| 鉄2O3 | ≤0.3% | 比重： | 3.2～3.45g/cm3 |
| FC | ≤0.3% | 嵩密度(LPD): | 1.2～1.6g/cm3 |
| 魅力的なコンテンツ | ≤0.02% | 色： | 黒 |
| 粒子形状: | 六角 | ||
黒色シリコンカーバイドマイクロパウダー JIS グリット粒度分布。
| JIS粒度 | D0(ミクロン) | D3(ミクロン) | D50(ミクロン) | D94(ミクロン) |
| ＃240 | ≤ 127 | ≤ 103 | 57.0±3.0 | ≥ 40 |
| ＃280 | ≤ 112 | ≤ 87 | 48.0±3.0 | ≥ 33 |
| ＃320 | ≤ 98 | ≤ 74 | 40.0±2.5 | ≥ 27 |
| ＃360 | ≤ 86 | ≤ 66 | 35.0±2.0 | ≥ 23 |
| ＃400 | ≤ 75 | ≤ 58 | 30.0±2.0 | ≥ 20 |
| ＃500 | ≤ 63 | ≤ 50 | 25.0±2.0 | ≥ 16 |
| ＃600 | ≤ 53 | ≤ 41 | 20.0±1.5 | ≥ 13 |
| ＃700 | ≤ 45 | ≤ 37 | 17.0±1.5 | ≥ 11 |
| ＃800 | ≤ 38 | ≤ 31 | 14.0±1.0 | ≥ 9.0 |
| ＃1000 | ≤ 32 | ≤ 27 | 11.5.±1.0 | ≥ 7.0 |
| ＃1200 | ≤ 27 | ≤ 23 | 9.5±0.8 | ≥ 5.5 |
| ＃1500 | ≤ 23 | ≤ 20 | 8.0±0.6 | ≥ 4.5 |
| ＃2000 | ≤ 19 | ≤ 17 | 6.7±0.6 | ≥ 4.0 |
| ＃2500 | ≤ 16 | ≤ 14 | 5.5±0.5 | ≥ 3.0 |
| ＃3000 | ≤ 13 | ≤ 11 | 4.0±0.5 | ≥ 2.0 |
| ＃4000 | ≤ 11 | ≤ 8.0 | 3.0±0.4 | ≥ 1.8 |
